真空镀膜是一种在真空环境中沉积薄膜的技术，它利用物理或化学方法将材料（如金属、非金属）加热、蒸发或溅射，然后使其凝结在基板表面形成一层薄膜。这种技术可以减少材料原子或分子在飞行过程中的碰撞，降低化学反应的可能性，提高薄膜的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。真空镀膜技术广泛应用于电子、宇航、包装、装潢、烫金印刷等行业，能够显著改善材料的表面性质和功能，如赋予金属光泽、提高耐磨性、提供电磁屏蔽效果等
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